1.采用了UICS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術。
2.拓展了物鏡的復用技術,無限遠物鏡與觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法,并在每一觀察法中均提供高清晰的圖像質量。
3.采用非球面Kohler照明,增加觀察亮度。
4.WF10X(Φ25)視野目鏡,長工作距離明暗場金相物鏡。
5.可插DIC微分干涉裝置的轉換器。
技術規格:
數碼金相顯微鏡型號 XHC-SV1
光學系統 UICS 無限遠光學系統
光路設計透、反射光路設計
觀測方式明/暗場觀測、偏光觀測、微分干涉(DIC)觀測
觀察頭鉸鏈式三目,30度傾斜,50mm-76mm
放大倍數 50X-1000X(可擴展至2000X)
目鏡寬場、視場目鏡10×視場直徑¢25mm
物鏡平場、無限遠長工作距離、明暗場金相物鏡:(標配四個)
5×/0.1B.D/W.D.29.4mm 10×/0.25B.D/W.D.16mm
20×/0..D/W.D.10.6mm 40×/0.6B.D/W.D.5.4mm
50×/0.55B.D/W.D.5.1mm 80×/0.75B.D/W.D.4mm
100×/0.80B.D/W.D.3mm
轉換器帶微分干涉(DIC)插口的四孔轉換器
偏光裝置檢偏鏡可360度轉動,起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路
濾光裝置插板式濾(綠、藍、中性)
聚光鏡 NA1.25阿貝聚光鏡帶可變光欄和濾
數碼系統 300萬像素彩色CCD系統,實時視頻輸出、數碼拍照、各種圖像處理功能
圖像軟件可實現對顯微圖像的線寬、線距、角度、兩點間距離、圓、平行線間距離、任意曲線長度任意多邊形等的幾何尺寸測量。可達&plun;1μm.可拍攝數碼照片進行分析、存儲、研究等
調焦系統具有粗、微調同軸調節,行程40mm,微動格值0.002mm
載物臺二維移動載物臺,低位同軸手作 X、Y移動范圍:81mm×52mm;平臺尺寸:190mm×162mm
照明系統落射照明:帶孔徑光欄和視場光欄,鹵素燈12V/50W,AC85V-230V,亮度可調節
照明:鹵素燈12V/50W,AC85V-230V,亮度可調節
主要用途:
XHC-SV1型數碼正置金相顯微鏡作為工業顯微鏡可進行明暗場觀察、透反射、偏光、DIC觀測,廣泛應用于太陽能電池片、硅片制造業、半導體晶圓制造業、電子信息產業、治金工業;還應用于工廠、研究機構、高等院校等。
其他說明
| 數碼金相顯微鏡型號 | XHC-SV1 |
| 光學系統 | UICS 無限遠光學系統 |
| 光路設計 | 透,反射光路設計 |
| 觀測方式 | 明/暗場觀測,偏光觀測,微分干涉(DIC)觀測 |
| 觀察頭 | 鉸鏈式三目,30度傾斜,50mm-76mm |
| 放大倍數 | 50X-1000X(可擴展至2000X) |
| 目鏡 | 寬場,視場目鏡10* 視場直徑¢25mm |
| 物鏡 |
平場,無限遠長工作距離,明暗場金相物鏡:(標配四個) 5* /0.1B. D/W. D. 29.4mm 10* /0.25B. D/W. D. 16mm 20* /0.. D/W. D. 10.6mm 40* /0.6B. D/W. D. 5.4mm 50* /0.55B. D/W. D. 5.1mm 80* /0.75B. D/W. D. 4mm 100* /0.80B. D/W. D. 3mm |
| 轉換器 | 帶微分干涉(DIC)插口的四孔轉換器 |
| 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度轉動,起偏鏡,檢偏鏡均可移出光路 |
| 濾光裝置 | 插板式濾(綠,藍,中性) |
| 聚光鏡 | NA1.25阿貝聚光鏡帶可變光欄和濾 |
| 數碼系統 | 300萬像素彩色CCD系統,實時視頻輸出,數碼拍照,各種圖像處理功能 |
| 圖像軟件 | 可實現對顯微圖像的線寬,線距,角度,兩點間距離,圓,平行線間距離,任意曲線長度任意多邊形等的幾何尺寸測量.可達&plun; 1μ m. 可拍攝數碼照片進行分析,存儲,研究等 |
| 調焦系統 | 具有粗,微調同軸調節,行程40mm,微動格值0.002mm |
| 載物臺 | 二維移動載物臺,低位同軸手作 X,Y移動范圍:81mm* 52mm;平臺尺寸:190mm* 162mm |
| 照明系統 |
落射照明: 帶孔徑光欄和視場光欄,鹵素燈12V/50W,AC85V-230V, 亮度可調節 照明: 鹵素燈12V/50W, AC85V-230V, 亮度可調節 |



